Projekty oddelenia senzorických informačných systémov a technológií VEGA – Vedecká grantová agentúra MŠVVaŠ SR a SAV
GAV – Grantová agentúra pre vedu
COPERNICUS – European Communities
ASFEU – Agentúra MŠVVaŠ SR pre štrukturálne fondy EÚ
APVV – Agentúra na podporu výskumu a vývoja
MAD – Medzi-akademická dohoda

Aktuálne riešené projekty oddelenia:

Polovodivé oxidy kovov – nové materiály pre environmentálne senzory
Semiconducting Metal Oxide - New Materials For Environmental Sensors
Program: Mobility
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Mgr. Andok Robert, PhD.
ID: SAS-BAS-21-04
Doba trvania: 1.1.2021 - 31.12.2022
Anotácia
Mikroelektromechanické senzory s rádiofrekvenčnýcm prenosom údajov
Microelectromechanical sensors with radio frequency data transmission
Program: APVV
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Havlík Štefan, DrSc.
ID: APVV-20-0042
Doba trvania: 1.7.2021 - 30.6.2025
Web stránka: -
Anotácia
Nanoštruktúrne polovodivé materiály a ich integrácia do chemoodporových senzorov plynov a do senzorov ťažkých kovov
-
Program: VEGA
Zodpovedný riešiteľ: RNDr. Kostič Ivan
ID: 1/0789/21
Doba trvania: 1.1.2021 - 31.12.2024
Anotácia
Spracovanie údajov zo senzorov prostriedkami umelej inteligencie
Processing of sensor data via Artificial Intelligence methods.
Program: VEGA
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Malík Peter, PhD.
ID: VEGA 2/0155/19
Doba trvania: 1.1.2019 - 31.12.2022
Anotácia

Ukončené projekty:

Inovácia sub-mikrometrovej elektrónovej litografie
Innovation of sub-micrometer electron beam lithography
Program: Bilaterálne - iné
Zodpovedný riešiteľ: RNDr. Kostič Ivan
ID: SK-BUL-010-06
Doba trvania: 1.1.2007 - 31.12.2009
Web stránka: http://www.ie-bas.dir.bg/Departments/Beamtech.htm
Kompatibilné molekulárne procesy pre prípravu molekulárnych elektronických obvodov
Molecular-friendly processes for fabrication of molecular electronic devices
Program: Bilaterálne - iné
Zodpovedný riešiteľ: RNDr. Kostič Ivan
ID: SK-GR-047-11
Doba trvania: 1.1.2013 - 31.12.2014
Anotácia
Korelácia štruktúry a magnetických vlastností nových magnetických nano častíc
Correlation of structure and magnetism in novel nanoscale magnetic particles
Program: 5RP
Zodpovedný riešiteľ: RNDr. Kostič Ivan
ID: 150
Doba trvania: 1.3.2000 - 31.7.2004
Web stránka: http://agfarle.uni-duisburg.de/RTN
Monitorovací a stimulačný systém s 3D snímačom a mikro-ohrievačom na báze uhlíka/grafénu s bezdrôtovým ovládaním pre automatizované individuálne monitorovanie a stimuláciu drobného hmyzu
An individual stimulating system with 3D nano-structure carbon/graphene based transducer and wireless heater for automated tiny insects behavior monitoring
Program: JRP
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Mgr. Andok Robert, PhD.
ID: SAS-MOST JRP2017/1
Doba trvania: 1.1.2018 - 31.12.2020
Anotácia
Návrh a simulácia mikrorobotických prístrojov
Design and simulation for micro robotic devices
Program: Medziakademická dohoda (MAD)
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Havlík Štefan, DrSc.
ID: Project No 605
Doba trvania: 1.1.2004 - 31.12.2006
Anotácia
Radikálna inovácia bezmaskovej nanolitografie
Radical Innovation Maskless Nanolithography
Program: 6RP
Zodpovedný riešiteľ: RNDr. Kostič Ivan
ID: 17133
Doba trvania: 1.10.2005 - 30.9.2008
Web stránka: www.rimana.org, http://cordis.europa.eu/fetch?CALLER=FP6_PROJ=D=74659=1=PROJ=14
Technológia výroby matice paralelných inteligentných nosníkov –sondových platform pre analýzu a syntézu v nanometrovej oblasti
Technology for the Production of Massively Parallel Intelligent Cantilever – Probe Platform for Nanoscale Analysis and Synthesis
Program: 6RP
Zodpovedný riešiteľ: RNDr. Kostič Ivan
ID: 515739
Doba trvania: 1.4.2005 - 30.9.2010
Web stránka: www.pronano.org
Tvarovanie štruktúr pre senzorové aplikácie s využitím elektrónovej litografie
Nano-structuring by Electron Beam Lithography for Sensor Application
Program: Bilaterálne - iné
Zodpovedný riešiteľ: RNDr. Kostič Ivan
ID: APVV SK-BG-2013-0030
Doba trvania: 9.5.2016 - 31.12.2017
Výkonná litografia submikrometrových a nanometrových štruktúr
Robust Lithography of Submicron nad Nano-dimensional Structures
Program: Bilaterálne - iné
Zodpovedný riešiteľ: RNDr. Kostič Ivan
ID: SK-BG-0037-10
Doba trvania: 1.1.2012 - 31.12.2013
Anotácia
Výskum elektrónových rezistov a príprava nanoštruktúr s využitím elektrónovej litografie vo výskume senzorov plynu
Study of electron beam resists and patterning of nano-structures by electron beam lithography for gas sensor applications
Program: Medziakademická dohoda (MAD)
Zodpovedný riešiteľ: RNDr. Kostič Ivan
ID: JRP SAS-BAS 2015-2017
Doba trvania: 1.1.2015 - 31.12.2017
(Mikro) Elektro-Mechanizmy pre robotiku a extrémne pracovné prostredia.
(Micro) Electro-mechnisms for robotics and extremely work spaces (enviroments).
Program: VEGA
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Havlík Štefan, DrSc.
ID: 2/0048/13
Doba trvania: 1.1.2013 - 31.12.2015
Anotácia
Budovanie Centra excelentnosti pre nové technológie v elektrotechnike - II. etapa
Centre of Excelence for New Technologies in Electrical Engineering
Program: Štrukturálne fondy EÚ Výskum a vývoj
Zodpovedný riešiteľ: RNDr. Kostič Ivan
ID: ITMS – 262 401 200 19
Doba trvania: 1.3.2010 - 28.2.2013
Web stránka: http://www.elu.sav.sk/old/cente/index.html
Anotácia
Centrum excelentnosti pre nové technológie v elektrotechnike - I.etapa
Center of Excellence for New Technologies in Electrical Engineering
Program: Štrukturálne fondy EÚ Výskum a vývoj
Zodpovedný riešiteľ: RNDr. Kostič Ivan
ID: ITMS – 26240120011
Doba trvania: 15.5.2009 - 14.5.2011
Web stránka: http://www.elu.sav.sk/old/cente/index.html
Anotácia
Elektrónová litografia nanometrových štruktúr pre 2D materiály na báze sulfidov kovov
Electron beam lithography of nanometer structures for 2D materials on the base of metal sulfides
Program: VEGA
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Mgr. Andok Robert, PhD.
ID: 2/0119/18
Doba trvania: 1.1.2018 - 31.12.2021
Anotácia
Elektrónový spinový polarimeter na báze tenkých feromagnetických membrán
Electron Spin PolaRImeTer based on thin ferromagnetic membranes
Program: APVV
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Mgr. Andok Robert, PhD.
ID: SK-FR-2013-0032
Doba trvania: 1.1.2014 - 31.12.2015
Anotácia
Fyzika informácie
Physics of Information
Program: Centrá excelentnosti SAV
Zodpovedný riešiteľ: RNDr. Kostič Ivan
ID:
Doba trvania: 1.1.2005 - 31.12.2008
Web stránka: http://www.quniverse.sk/cepi/
Anotácia
Hybridné spintronické štruktúry riadené spinovopolarizovaným prúdom
Hybrid Spintronic Nanostructures Controlled by Spin-Polarized Current
Program: APVV
Zodpovedný riešiteľ: RNDr. Kostič Ivan
ID: APVV-0173-06
Doba trvania: 1.1.2007 - 30.4.2010
Web stránka: http://www.fu.sav.sk/?q=sk/projects#APVV
Anotácia
Mechatronický vizuálny systém
Mechatronic vision system
Program: VEGA
Zodpovedný riešiteľ: Doc. Ing. Dobrovodský Karol, PhD.
ID: 2/0145/10
Doba trvania: 1.1.2010 - 31.12.2012
Web stránka: 12 000
Anotácia
MEMS štruktúry na báze poddajných mechanizmov
MEMS structures based on load cell
Program: APVV
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Havlík Štefan, DrSc.
ID: APVV-14-0076
Doba trvania: 1.7.2015 - 30.6.2019
Anotácia
Mikro-elektro-mechanické štruktúry a senzory pre využitie v automobilovom priemysle a doprave
-
Program: Štrukturálne fondy EÚ Doprava
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Mgr. Andok Robert, PhD.
ID: NFP313011X741
Doba trvania: 1.1.2016 - 31.12.2019
Web stránka: mems.sk
Anotácia
Mikro-elektro-mechanické štruktúry a senzory pre využitie v automobilovom priemysle a dopraveKód
Micro-electro-mechanical structures and sensors for aplication in automotive industry
Program: Štrukturálne fondy EÚ Výskum a inovácie
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Mgr. Andok Robert, PhD.
ID: 313011X741
Doba trvania: 1.1.2016 - 31.12.2019
Web stránka: http://mems.sk
Anotácia
Nanoštruktúrne tenkovrstvové materiály a inovatívne technológie pre MEMS senzory plynov a ťažkých kovov
Nanostructured thin-film materials and innovative technologies for MEMS gas and heavy metal sensors
Program: VEGA
Zodpovedný riešiteľ: RNDr. Kostič Ivan
ID: 1/0828/16
Doba trvania: 1.1.2016 - 31.12.2019
Anotácia
Odolný senzorický systém do priemyselných prostredí s vysokými tlakmi, teplotami a vysokým stupňom elektromagnetického rušenia
(EkoWatt)
Program: Štrukturálne fondy EÚ Výskum a vývoj
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Mgr. Andok Robert, PhD.
ID: ITMS 26240220037
Doba trvania: 1.1.2011 - 31.10.2013
Web stránka: http://www. ekowatt.sk/projekty/
Anotácia
Počítačová stavebnica pre vývoj, modelovanie, simuláciu a animáciu mechatronických systémov
Computer kit for development, modeling, simulation and animation of mechatronic systems
Program: VEGA
Zodpovedný riešiteľ: Doc. Ing. Dobrovodský Karol, PhD.
ID: 2/7100/27
Doba trvania: 1.1.2007 - 1.12.2009
Anotácia
Pokročilé MEMS chemické senzory pre extrémne podmienky
Advanced MEMS chemical sensors for extreme conditions
Program: APVV
Zodpovedný riešiteľ: RNDr. Kostič Ivan
ID: APVV-0655-07
Doba trvania: 1.6.2008 - 31.12.2010
Web stránka: www.elu.sav.sk
Anotácia
Príprava \'aktívnych\' hrotov sondovej mikroskopie metódou MOCVD
Preparation of \'active\' tips for probe microscopy by MOCVD
Program: APVV
Zodpovedný riešiteľ: RNDr. Kostič Ivan
ID: APVV-51-045705
Doba trvania: 1.1.2007 - 31.10.2009
Web stránka: http://www.elu.sav.sk/apvv.html
Anotácia
Prostriedky pre návrh a modelovanie (mikro) elektro-mechanických systémov (MEMS).
Tools for design and simulation of (Micro) Electro-Mechanical Systems (MEMS).
Program: VEGA
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Havlík Štefan, DrSc.
ID: 2/4147/04
Doba trvania: 1.1.2004 - 31.12.2006
Anotácia
Prostriedky pre návrh, modelovanie a simuláciu mikro-elektromechanických štruktúr a mechanizmov /MEMS/
Tools for design, modeling and simulation of micro electro-mechanical systems /MEMS/
Program: VEGA
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Havlík Štefan, DrSc.
ID: 2/7099/27
Doba trvania: 1.1.2007 - 31.12.2009
Anotácia
Stavba a riadenie mikro-elektro-mechanických prvkov a zariadení.
Construction and control of micro-electro-mechanical elements and devices.
Program: VEGA
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Havlík Štefan, DrSc.
ID: 2/0006/10
Doba trvania: 1.1.2010 - 31.12.2012
Anotácia
Technológia výroby matice paralelných inteligentných nosníkov – sondových platform pre analýzu a syntézu v nanometrovej oblasti
Technology for the Production of Massively Parallel Intelligent Cantilever – Probe Platform for Nanoscale Analysis and Synthes
Program: Vedecko-technické projekty
Zodpovedný riešiteľ: RNDr. Kostič Ivan
ID:
Doba trvania: 1.1.2009 - 31.12.2009
Anotácia
Výskum nových nanolitografických technológii
Investigation of novel nanolithographic technologies
Program: VEGA
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Hrkút Pavol, CSc.
ID: 2/0214/09
Doba trvania: 1.1.2009 - 31.12.2011
Web stránka: www.ui.sav.sk/ebl
Anotácia
Výskum nových rezistových materiálov pre litografiu novej generácie
Investigation of Novel Resist Materials for Next Generation Lithography
Program: VEGA
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Hrkút Pavol, CSc.
ID: VEGA 2/6184/26
Doba trvania: 1.1.2006 - 1.12.2008
Výskum procesov prípravy štruktúr pre obvody na nanometrovej úrovni
Investigation of processes for the preparation of structures for nanometer scale devices
Program: VEGA
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Mgr. Andok Robert, PhD.
ID: 2/0134/15
Doba trvania: 1.1.2015 - 31.12.2017
Anotácia
PFO-CAD CP93: 7896 - Copernicus program - Geometric Modeling for CIM-oriented Virtual Reality
PFO-CAD CP93: 7896 - Copernicus program - Geometric Modeling for CIM-oriented Virtual Reality
Program: Iné
Zodpovedný riešiteľ: Ing. Sebestyénová Jolana, PhD.
ID: CP93: 7896
Doba trvania: 1.2.1994 - 30.4.1995
Web stránka: http://cordis.europa.eu/project/rcn/30200_en.html
Anotácia
Výskum a vývoj nových informačných technológií na predvídanie a riešenie krízových situácií a bezpečnosť obyvateľstva
(CRISIS)
Program: Štrukturálne fondy EÚ Výskum a vývoj
Zodpovedný riešiteľ: doc. Ing. Hluchý Ladislav, CSc.
ID: ITMS 26240220060
Doba trvania: 3.1.2011 - 31.12.2013
Anotácia

Aktuálne riešené projekty oddelenia (anotácie):

Polovodivé oxidy kovov – nové materiály pre environmentálne senzory
Semiconducting Metal Oxide - New Materials For Environmental Sensors
Anotácia: Návrh tohto projektu je motivovaný výskumom nových polovodivých materiálov na báze oxidov kovov ako sú oxid titaničitý TiO2, NiO, ZnO, ako aj súčasným stavom vývoja elektrónovej litografie (EBL), ktorá je jednou z alternatívnych metód prípravy mikro- a nanoštruktúr.Návrh projektu je zameraný na získanie nových vedeckých poznatkov pri príprave štruktúr v nanometrovej oblasti rozmerov (50 - 150 nm) v elektrónových rezistoch na tenkých vrstvách polovodivých oxidov kovov. Sústredíme sa na výskum vplyvu procesov elektrónovej litografie na výsledné nanometrové štruktúry pripravené v elektrónových rezistoch na nekonvenčných materiáloch, ako sú polovodivé oxidy kovov, a to z hľadiska rozlíšenia, presnosti rozmerov štruktúr v reziste a tvaru bočných stien štruktúr v reziste. Dôležitou súčasťou tohto projektu sú simulácie litografických parametrov elektrónových rezistov na tenkých vrstvách polovodivých oxidov kovov. Na základe získaného know-how a simulácií litografických parametrov pripravíme nano-metrové štruktúry v tenkých vrstvách polovodivých oxidov kovov (vrátane TiO2) pre vývoj chemorezistívnych senzorov plynov.
Mikroelektromechanické senzory s rádiofrekvenčnýcm prenosom údajov
Microelectromechanical sensors with radio frequency data transmission
Anotácia: Projekt rozpracúva autormi navrhnutú metódu snímania najmä mechanických veličín s bezvodičovým prenosomsignálov / energií prostredníctvom elektromagnetického poľa, riešenia snímačov ako aj (mikro)elektromechanizmov (MEMS). Úloha je logickým pokračovaním dosiahnutých výsledkov v rámci úspešnéhoriešenia predchádzajúceho projektu APVV 14-0076, kde bol navrhnutý a overený princíp snímania a koncepciariešenia snímačov podľa pôvodného návrhu (úžitkový vzor č. 8653 a zverejnenie patentovej prihlášky PP 121-2018). Podaný projekt predstavuje ďalšie teoretické a metodicko-experimentálne spracovanie za účelom splneniašpecifických požiadaviek na riešenie konkrétnych snímačov zahrnujúce poddajné - deformačné členy aelektronické vyhodnocovacie obvody ako aj iných elektromechanizmov s ohľadom na vybrané aplikácie. Súčasťouriešenia je vytvorenie prostriedkov pre modelovanie, simulácie a optimalizáciu vlastností s využitím dostupnýchtechnológií MEMS. Ciele projektu sledujú najnovší svetový trend v oblasti riešenia MEMS.
Nanoštruktúrne polovodivé materiály a ich integrácia do chemoodporových senzorov plynov a do senzorov ťažkých kovov
-
Anotácia: Zámerom projektu bude uskutočniť základný výskum v oblasti hľadania nových progresívnych polovodivýchmateriálov na báze kovových oxidov a disulfidov ako aj v oblasti výskumu technológie elektródového materiáluna báze bórom dopovaných diamantových vrstiev. Predpokladáme, že naše aktivity budú zamerané na prípravu a výskum vlastností TiO2, NiO a WS2 vrstiev, ich vybraných kombinácii ako aj na ich dopovanie, pričom takéto nanoštruktúrne polovodivé materiály budú integrované do chemoodporových senzorov plynov umiestnených natenkých elektroizolačných membránach. Pozornosť bude venovaná aj výskumu technológie integrovanéhovoltampérometrického senzora s ochrannou opolmérnou vrstvou Nafionu pre simultánne stanovovanie stopových koncentrácií ťažkých kovov.
Spracovanie údajov zo senzorov prostriedkami umelej inteligencie
Processing of sensor data via Artificial Intelligence methods.
Anotácia: Projekt sa zameria na výskum nových metód a algoritmov spracovania multisenzorových dát pre úlohy diagnostiky objektov, vyhodnocovania oblastí záujmu, bezpečnej komunikácie a zjednodušenia tvorby nových inteligentných modelov. Výskum bude prioritne orientovaný na moderné metódy umelej inteligencie s dôrazom na hlboké učenie. Algoritmy umelej inteligencie preukazujú výrazne lepšie výsledky v porovnaní s klasickými metódami a príkladom je obrovský pokrok spresnenia sémantického segmentovania obrazu pomocou hlbokého učenia v posledných piatich rokoch. Moderné miniatúrne elektromechanické štruktúry s nízkou cenou umožňujú jednoduchú integráciu a skupinové nasadenie viacerých senzorov vedúce k produkcii obrovského objemu multisenzorových dát, ktoré nie je možné manuálne spracovať. Výstupom budú nové modely presnej sémantickej segmentácie obrazu, modely presnej diagnostiky objektov, modely kooperácie viacerých senzorov a bezpečného prenosu dát, najmä v prostredí Internetu vecí - IoT a Priemysel 4.0.

Ukončené projekty (anotácie):

Kompatibilné molekulárne procesy pre prípravu molekulárnych elektronických obvodov
Molecular-friendly processes for fabrication of molecular electronic devices
Anotácia: Cieľom tohto projektu je vývoj a optimalizácia technológie prípravy molekulárnych logických obvodov založenej na samoorganizácii molekulárnych monovrstiev, overenie technológie na konkrétnom molekulárnom obvode a následná charakterizácia molekulárneho obvodu. Konkrétne je navrhnutý vývoj molekulárneho spínača. Pri príprave dielektrickej hradlovej a kovovej elektródy je navrhnutý technologický postup, ktorý minimalizuje riziko poškodenia molekulárnej monovrstvy alebo jej elektrických vlastností. To znamená, že nebudú použité roztoky alebo tepelného spracovanie.
Monitorovací a stimulačný systém s 3D snímačom a mikro-ohrievačom na báze uhlíka/grafénu s bezdrôtovým ovládaním pre automatizované individuálne monitorovanie a stimuláciu drobného hmyzu
An individual stimulating system with 3D nano-structure carbon/graphene based transducer and wireless heater for automated tiny insects behavior monitoring
Anotácia: Počas trvania projektu si dávame za cieľ navrhnúť a zhotoviť mikrosnímač polohy na báze 3D uhlíkových štruktúr, čiže ide o zhotovenie monitorovacieho a vyhodnocovacieho systému, ktorý pomôže v experimente pri stanovení presnej polohy drobného hmyzu, za účelom sledovania ich sociálneho správania sa.Ďalej zhotovíme mikroohrievač s bezdrôtovým ovládaním vo forme mikročipu (s prihliadnutím na rozmery a fyziológiu drobného hmyzu), ktorý bude pripevnený na chrbtovej časti sledovaného hmyzu. Súčasťou tohto mikroohrievača bude LC rezonančný obvod (mikrocievka) presne stanovených rozmerov vytvarovaný na tenkej uhlíkovej vrstve (resp. niekoľko mikročipov na báze mikroohrievača s rôznymi rezonančnými frekvenciami pre monitorovanie viacerých, ca 10, drozofíl súčasne). Odladenie technológie výroby a funkčnosti prototypu mikroohrievača bude predmetom experimentov na UI SAV v úzkej spolupráci s ElU SAV. Pôsobením riadeného vonkajšieho el.-magn. poľa dôjde v dôsledku el.mag. indukcie k lokálnemu nedeštruktívnemu ohrevu chrbtovej časti hmyzu. Existujú štúdie, ktoré poukazujú na možnosť riadenej stimulácie hmyzu pôsobením lokálneho mikroohrevu – čo je zároveň motiváciou nášho experimentu. Predpokladáme, že zvládnutie vývoja oboch týchto štruktúr nájde uplatnenie aj v iných oblastiach/riešeniach v rámci ústavov SAV či v spolupráci so slov. univerzitami. Hlavným cieľom teda je uľahčeni experimentu sociálneho správania sa zvoleného druhu hmyzu (Drosophilae).Drosophilae boli v projekte zvolené ako modelový organizmus, pretože je známe, ze >60 percent ľudskych závažných ochorení CNS / mozgových ochorení má identický genetický pôvod. Hierarchická štruktúra nervovej sústavy drozofíl sa podobá štruktúre mozgu cicavcov, teda do istej miery aj ľudí, čo podmieňuje ich koplikované správanie sa (reprodukcia, spánok, schopnosť učiť sa, rojenie – vytváranie organizovaných spoločenských skupín). Ako širší dopad tejto bilaterálnej spolupráce sledovaním sociálneho správania sa drozofíl môžeme pomôct pochopiť príčinu niektorých závažných ochorení mozgu (Parkinson, Alzheimer...), pomôct v aplikácii neurónovych sietí, a pod. Výsledky projektu môžu zasiahnuť aj do širších oblastí, ako už bolo spomenuté (napr. vedy o živej prírode / medicínske vedy).
Návrh a simulácia mikrorobotických prístrojov
Design and simulation for micro robotic devices
Anotácia: Skúmanie a riešenie metód a prostriedkov pre návrh a simuláciu mikro-elektromechanických zariadení v robotike. predmetom rozpracovania sú nasledujúce problémy:- Metodika analýzy mikro-mechanických štruktúr. - Modelovanie a simulácia za účelom optimálneho návrhu s využitím multikriteriálnej optimalizácie.- Návrhy, riešenia a experimentálne overenia mikro-efektov (uchopovačov) pre vybrané aplikácie.
Výkonná litografia submikrometrových a nanometrových štruktúr
Robust Lithography of Submicron nad Nano-dimensional Structures
Anotácia: Tento projekt nadväzuje na predchádzajúci projekt Slovensko-Bulharskej vedecko-technickej spolupráce, v ktorom boli riešené problémy submikrometrovej elektrónovej litografie. V tomto projektu navrhujeme rozšíriť experimenty a simulácie do oblasti nanometrových rozmerov štruktúr. Výroba obvodov v nanometrovej oblasti si vyžaduje veľmi presnú reguláciu profilu štruktúr v polymérnych rezistoch. Proces simulácie je kľúčový pre optimalizáciu výsledkov litografického procesu. Konečným cieľom projektu je využitie výsledkov výskumu pre expozície štruktúr v oblasti rozmerov menej ako 100 nm. Projekt má nasledovné ciele: - príprava spoločných publikácií,- spoločná aktívna účasť na konferenciách EBT 2010 v Bulharsku a APCOM 2011 na Slovensku,- vzájomné využívanie špeciálnych laboratórnych zariadení – elektrónového litografu ZBA a rastrovacej elektrónovej mikroskopie v SAV a AFM mikroskopie v BAN,- zbieranie výskumných materiálov v oblasti nanolitografie pre výukové a popularizačné účely.
(Mikro) Elektro-Mechanizmy pre robotiku a extrémne pracovné prostredia.
(Micro) Electro-mechnisms for robotics and extremely work spaces (enviroments).
Anotácia: Projekt skúma metódy a rieši prostriedky pre návrh, modelovanie, a simuláciu elektro-mechanických zariadení, najmä snímačov mechanických veličín a akčných členov pre špecifické použitie v robotike a extrémne pracovné prostredia. Riešenie pozostáva zo vzájomnej synergie skúmania vlastností mechanických častí - deformačných členov, elektroniky pre spracovanie a prenos signálov, EMC) ako aj metód vyhodnocovania údajov. Predmetom riešenia sú teoretické a metodické rozpracovania nasledujúcich problémov: – Analýza, modelovanie a simulácia vlastností pružných mechanických štruktúr vhodných pre riešenie snímačov a akčných členov. – Optimálne riešenia elektro-mechanických štruktúr a snímačov mechanických veličín a akčných členov. – Skúmanie metód bezvodičového prenosu signálov, vyhodnocovanie a spracovanie signálov, kalibrácia.
Budovanie Centra excelentnosti pre nové technológie v elektrotechnike - II. etapa
Centre of Excelence for New Technologies in Electrical Engineering
Anotácia: Strategickým cieľom projektu je„Zvýšenie potenciálu pre špičkový základný výskum Centra excelentnosti pre nové technológie v elektrotechnike a jeho prínosu pre spoločnosť a prax“.Projekt má nasledovné špecifické ciele:1: Zabezpečenie efektívneho fungovania a riadenia Centra excelentnosti2: Zvýšenie výskumného potenciálu Centra špičkovými prístrojmi potrebnými pre realizáciu prebiehajúcich a pripravovaných projektov3: Zvýšenie spoločensko-hospodárskej pridanej hodnoty Centra excelentnosti.
Centrum excelentnosti pre nové technológie v elektrotechnike - I.etapa
Center of Excellence for New Technologies in Electrical Engineering
Anotácia: ÚI SAV sa podieľal na realizácii projektu CENTE-I v rámci výzvy Operačného programu Výskum a vývoj na opatrenie č. 4.1 Podpora sietí excelentných pracovísk výskumu a vývoja ako pilierov rozvoja regiónu v Bratislavskom kraji so strategickým cieľom zvýšiť výskumno-vývojový potenciál BSK regiónu v oblasti elektrotechniky pre potreby spoločensko-hospodárskej praxe a medzinárodnej vedecko-technickej spolupráce. Medzi špecifické ciele projektu patrí najmä zlepšenie technickej infraštruktúry špičkových výskumných pracovísk v oblasti elektrotechniky v Bratislavskom regióne, keďže súčasná úroveň technickej infraštruktúry neumožňuje realizovať viaceré výskumné aktivity, vybavenie Centra špičkovými prístrojmi potrebnými pre realizáciu prebiehajúcich a pripravovaných projektov, zvýšenie úrovne informačno-komunikačných technológií Centra a integrácia Centra do regionálnej a medzinárodnej spolupráce. Centrum excelentnosti tvoria nasledovné nové laboratóriá: Laboratórium pre nanášanie kovov v čistých priestoroch, Laboratórium pre prípravu a tvarovanie nanoštruktúr a Laboratórium pre detekciu klastrov v tenkých vrstvách. ÚI SAV je zapojený do výskumnej činnosti Laboratória pre prípravu a tvarovanie nanoštruktúr. Rieši výskumné a aplikačné úlohy v oblasti elektrónovej litografie.
Elektrónová litografia nanometrových štruktúr pre 2D materiály na báze sulfidov kovov
Electron beam lithography of nanometer structures for 2D materials on the base of metal sulfides
Anotácia: Motivácia projektu vychádza jednak z výskumu nových 2D materiálov ako sú sulfidy kovov (WS2), a tiež zo súčasného stavu vývoja elektrónovej litografie (EBL), ako jednej z alternatívnych metód prípravy štruktúr v 2D elektronike. Projekt je venovaný získaniu nových vedeckých poznatkov o tvarovaní nanometrových štruktúr (10-100nm) v elektrónových rezistoch. Pozornosť bude venovaná výskumu vplyvu procesov pri elektrónovej litografii na výsledné nanometrové štruktúry v elektrónových rezistoch z hľadiska rozlíšenia, presnosti rozmerov štruktúr a drsnosti hrán štruktúr v reziste. Budú sa študovať parametre ovplyvňujúce profil nanometrových štruktúr v polymérnych rezistoch. Dôležitou súčasťou projektu sú simulácie litografických parametrov el. rezistov na tenkých polovodičových vrstvách, nitridových membránach a na vrstvách 2D materiálov (WS2). Na základe získaných poznatkov a simulácií litografických parametrov budú pripravené nanometrové štruktúry na týchto materiáloch podľa aktuálnych požiadaviek výskumu a vývoja.
Elektrónový spinový polarimeter na báze tenkých feromagnetických membrán
Electron Spin PolaRImeTer based on thin ferromagnetic membranes
Anotácia: Cieľom tohto projektu je vyvinúť nový typ elektrónového spinového polarimetra založeného naspinovo-filtračných javoch vo feromagnetických tenkých vrstvách. Takýto detektor môževýznamne prispieť k inováciám vo vývoji nových metód, akou je vývoj spinovej elektrónovejspektroskopie a mikroskopických techník.Práca sa sústreďuje na vypracovanie optimalizovaných štruktúr vykazujúcich spinovú filtráciu.Tieto štruktúry budú v sebe kombinovať dva typy magnetických membrán s hrúbkou niekoľkonanometrov, založených na:- tranzitných kovoch (Fe, Co) pokrytých vrstvou Au- oxidoch tranzitných kovov (Fe3O4).Budú vyvinuté špeciálne technologické procesy pre výrobu tenkých membrán na vhodnýchsubstrátoch. Vlastnosti štruktúr budú vyhodnocované a testované pomocou spinovopolarizovanej elektrónovej spektroskopie.Motiváciou tohto projektu sú: príprava spoločných publikácií, aktívna účasť na konferenciách voFrancúzsku a na Slovensku a príprava spoločných vedeckých podujatí, zapojenie mladýchvedeckých pracovníkov na oboch stranách, príprava spoločných medzinárodných projektov,vzájomné využívanie špeciálnych laboratórnych zariadení a zbieranie výskumých materiálov voblasti nanotechnológií (spintronika, spinová polarimetria, technológia tenkých vrstiev,elektrónová litografia) pre pedagogické a popularizačné účely.Súčasný návrh si tiež kladie za cieľ obnoviť už existujúce, ale v súčasnosti prerušené kontaktyfrancúzskeho partnera s partnermi zo SAV.
Fyzika informácie
Physics of Information
Anotácia: ÚI SAV rieši čiastkové úlohy prípravy nanoštruktúr metódou priamej elektrónovej litografie a návrh technológie a realizáciu obvodu mikroelektromagnetickej matice pre manipuláciu s nanočasticami.
Hybridné spintronické štruktúry riadené spinovopolarizovaným prúdom
Hybrid Spintronic Nanostructures Controlled by Spin-Polarized Current
Anotácia: Cieľom projektu je zhotovenie, charakterizácia a výskum nových GMR a TMR štruktúr pre spintroniku, ktoré sú založené na prúdom indukovanom preklápaní magnetizácie (CIMS) s využitím ako senzory magnetického poľa. Pripravíme a preskúmame spintronické GMR a TMR nanostlpiky (laterálny rozmer (150 nm) pre výskum prúdom indukovaného preklápanie magnetizácie (CIMS). GMR nanostlpiky pripravime UHV depozíciou a nanočasticovou lift-off litografiou a elektrónovou litografiou (EBL). Inovatívne TMR nanostlpiky so zabudovanými magnetickými nanocasticami budú pripravené kombináciou UHV naparovania, LB depozície nanočastíc a EBL. Magnetické konfigurácie nanostlpikov budú skúmané rastrovacím MOKE mikroskopom. Bude analyzovaný súvis štruktúry nanostlpikov, drsnosti rozhraní (vertikálnej a laterálnej korelácie drsnosti) a Néelovej feromagnetickej väzby s magnetickým a CIMS správaním sa pripravených štruktúr s cieľom dosiahnuť zníženie hustoty preklápacieho prúdu. Preskúma sa priebeh magnetizácie in situ pri jej preklápaní spinovo-polarizovaným prúdom simultánnymi meraniami závislostí dynamického elektrického odporu vs. prúd a Kerrovej rotácie vs. magnetické pole. ÚI SAV rieši čiastkovú úlohu prípravy litografických rezistových masiek pre vývoj GMR nanostľpikov
Mechatronický vizuálny systém
Mechatronic vision system
Anotácia: Navrhovaný mechatronický vizuálny systém je určený na automatické snímanie a monitorovanie statických a pohybujúcich sa objektov. Systém pozostáva z niekoľkých relatívne nezávislých podsystémov spolupracujúcich za účelom dosiahnutia spoločného cieľa rozpoznať existenciu a pohyb relatívne malých objektov od pozadia, hlásiť ich polohu, rýchlosť a zrýchlenie, predikovať pohyb a podporovať sledovanie pohybujúceho sa objektu. Kombinácia automatického rozpoznávacieho systému s automatickou predikciou pohybu objektu a riadenim orientácie kamery napomáha schopnosti celého systému pracovať autonómne v reálnom čase. Systém je navrhnutý modulárne, aby umožňoval jednoduchú adaptáciu na viacero statických a mobilných kamier mechanicky orientovaných v priestore dvoma stupňami voľnosti. Otvorená architektúra systému umožní integráciu riadenia skupiny, spracovanie denného a nočného obrazu a rôzne geometrické výpočty.
MEMS štruktúry na báze poddajných mechanizmov
MEMS structures based on load cell
Anotácia: Projekt je zameraný na analýzu, syntézu a konštrukciu elektromechanických snímačov na báze MEMS s možnosťou bezvodičového prenosu informácií o snímanej veličine. Riešenie projektu sa sústredí na skúmanie vhodnej topológie štruktúr najmä v súvislosti s návrhom požadovaných parametrov MEMS snímačov. Komplexný návrh zahrňuje paralelný návrh tak mechanickej ako aj elektrickej časti snímača. Pri mechanickom návrhu bude dôraz kladený najmä na analýzu modeľovanie a linearizáciu vlastností MEMS štruktúry. V elektrickej oblasti sa riešenie projektu sústredí na analyzovanie vhodného elektromagnetického deja na prenos informácií a doplnenie snímača elektrickými prvkami tak, aby nedoslo k znehodnoteniu požadovaných mechanických vlastností. V elektrickej oblasti sa bude prihliadať na mechanickú topológiu MEMS štruktúry s jej priamym využitím pre aplikovanie elektrických prvkov.
Mikro-elektro-mechanické štruktúry a senzory pre využitie v automobilovom priemysle a doprave
-
Anotácia: Projekt je zameraný na nezávislý aplikovaný výskum a vývoj v oblasti návrhu snímačov neelektrických fyzikálnych veličín (chemické snímače, snímače sily/tlaku/priblíženia, snímače plynov). Projekt sa zároveň zaoberá technologickými možnosťami výroby mikro-elektro-mechanických štruktúr (MEMS) prostredníctvom inovatívnych prístupov elektrónovej litografie. Projekt je zameraný na doménu RIS3 SK Dopravné prostriedky pre 21. storočie, kde sa primárne zameriava na znalostnú oblasť Materiálové inžinierstvo a nanotechnológie a produktovú líniu Materiály, štruktúry, senzory a prvky.V moderných vozidlách sa rapídne zvyšuje využitie a zložitosť elektronických technológií. Všetky elektronické systémy vo vozidle závisia od vstupných parametrov získaných zo senzorov, pričom vzrastá podiel senzorov vyrábaných pomocou technológií MEMS. Realizácia samotného výskumu a vývoja v projekte prispeje k skvalitneniu výskumno vývojových kapacít žiadateľa zapojením špičkových výskumníkov zo zahraničia do výskumného tímu. Ich spolupráca s výskumníkmi žiadateľa sa začala v minulosti a bude pokračovať aj v ďalších rokoch počas riešenia projektu a počas doby udržateľnosti projektu.
Mikro-elektro-mechanické štruktúry a senzory pre využitie v automobilovom priemysle a dopraveKód
Micro-electro-mechanical structures and sensors for aplication in automotive industry
Anotácia: Projekt je zameraný na nezávislý aplikovaný výskum a vývoj v oblasti návrhu snímačov neelektrických fyzikálnych veličín (chemické snímače, snímače sily/tlaku/priblíženia, snímače plynov). Projekt sa zároveň zaoberá technologickými možnosťami výroby mikro-elektro-mechanických štruktúr (MEMS) prostredníctvom inovatívnych prístupov elektrónovej litografie. Projekt je teda zameraný na doménu RIS3 SK Dopravné prostriedky pre 21. storočie, kde sa primárne zameriava na znalostnú oblasť Materiálové inžinierstvo a nanotechnológie a produktovú líniu Materiály, štruktúry, senzory a prvky. V moderných vozidlách sa rapídne zvyšuje využitie a zložitosť elektronických technológií. Všetky elektronické systémy vo vozidle závisia od vstupných parametrov získaných zo senzorov, pričom vzrastá podiel senzorov vyrábaných pomocou technológií MEMS. Realizácia samotného výskumu a vývoja v projekte prispeje k skvalitneniu výskumno vývojových kapacít žiadateľa zapojením špičkových výskumníkov zo zahraničia do výskumného tímu. Ich spolupráca s výskumníkmi žiadateľa sa začala v minulosti a bude pokračovať aj v ďalších rokoch počas riešenia projektu a počas doby udržateľnosti projektu.
Nanoštruktúrne tenkovrstvové materiály a inovatívne technológie pre MEMS senzory plynov a ťažkých kovov
Nanostructured thin-film materials and innovative technologies for MEMS gas and heavy metal sensors
Anotácia: Zámerom projektu je základný výskum v oblasti hľadania nových progresívnych materiálov na báze jednoduchých a zmiešaných kovových oxidov ako aj nových podkladových materiálov pre mikroelektródové polia. Predpokladáme, že naše aktivity budú zamerané na prípravu a výskum vlastností tenkých In2O3, TiO2, NiO vrstiev a ich vybraných kombinácii, pričom takéto vrstvy spolu so submikrometrovým elektródovým systémom a mikromechanickou platformou na báze polyimidovej membrány budú integrované do MEMS senzorov na detekciu plynov. Pozornosť bude venovaná aj výskumu pyrolytickej uhlíkovej vrstvy ako podkladu pre depozíciu Bi, pričom na stanovenie ťažkých kovov vo vodných syntetických roztokoch a reálnych vzorkách vody sa použije senzor, ktorý bude zahŕňať všetky 3 elektródy vo vertikálnom usporiadaní. Pre takýto integrovaný senzor bude optimalizovaná metodika merania pomocou elektrochemickej rozpúšťacej analýzyalebo potenciometrickej stripping analýzy.
Odolný senzorický systém do priemyselných prostredí s vysokými tlakmi, teplotami a vysokým stupňom elektromagnetického rušenia
(EkoWatt)
Anotácia: Cieľom projektu je vytvoriť senzorický systém pre extrémne prostredia odolný do vysokých teplôt až 400ºC, do vysokých tlakov až 1000 bar a v prostrediach vysokých stupňov elektromagnetického rušenia. Odolný systém senzorov je určený pre zabudované (embedded) riadiace systémy technologických procesov, kde sa v rôznych kombináciách vyskytujú hore uvedené podmienky okolia. Takýmito systémami sú ultrahlboké vrty pre výrobu elektrickej energie z geotermálnych zdrojov v hĺbke až 10 km, ďalej obdobné podmienky sú aj v niektorých zložitých metalurgických procesoch, náročných zváracích procesoch, výskume a výrobe nových materiálov za vysokých teplôt a tlakov, vojenskej oblasti a v riadení nových hybridných elektrických automobilov.
Počítačová stavebnica pre vývoj, modelovanie, simuláciu a animáciu mechatronických systémov
Computer kit for development, modeling, simulation and animation of mechatronic systems
Anotácia: Predmetom projektu je návrh a vypracovanie efektívnych nástrojov počítačovej syntézy riadiacich mechatronických systémov pracujúcich v reálnom čase. Realizácia programovej stavebnice statických a mobilných kinematických mechanizmov umožní modelovať riadené objekty, simulovať algoritmy ich riadenia a zároveň bude platformou vývoja reálneho riadiaceho systému skutočných objektov. Cieľom projektu je vypracovať metodiku navrhovania nových riadiacich mechatronických systémov, poskytnúť efektívny nástroj na modelovanie statických aj mobilných objektov riadenia a vytvoriť prostredie pre simuláciu riadiacich algoritmov za účelom ich postupného overovania. Stavebnica má umožniť vývoj a realizáciu nového riadiaceho systému reálnych objektov riadenia a zároveň aj príslušného trenažéru, ktorého objekty riadenia sú simulované. Uvedená koncepcia poskytuje možnosť implementácie nového riadiaceho systému postupným nahradzovaním simulovaných objektov reálnymi.
Pokročilé MEMS chemické senzory pre extrémne podmienky
Advanced MEMS chemical sensors for extreme conditions
Anotácia: Cieľom projektu je návrh, technologická realizácia a analýza funkčných vlastností a multifunkčných princípov snímania pokročilého MEMS chemického senzorového prvku na báze piezoelektrického materiálového systému AlGaN/GaN a InAlN/GaN. Snahou tímu projektu bude predstaviť novo navrhnutý MEMS senzor, v celej jeho multidisciplinárnje zložitosti riešenia. Popri rozvíjaných metód modelovania a procesnej technológie prvku veľký dôraz bude kladený na rozvoj novej metológie snímania a detekcie ako aj nových nekonvekčných optických metód elektro-tepelno-mechanickej charakterizácie v statických ako aj dynamických pracovných podmienkach MEMS prvku. ÚI SAV rieši čiastkovú úlohu prípravy submikrometrových štruktúr metódou priamej elektrónovej litografie a realizáciu fotomasiek pre vývoj MEMS chemických senzorov.
Príprava \'aktívnych\' hrotov sondovej mikroskopie metódou MOCVD
Preparation of \'active\' tips for probe microscopy by MOCVD
Anotácia: Cieľom tohto projektu je rozpracovať technológiu „aktívnych hrotov“ sondových mikroskopov so súčiastkami (tranzistorom, senzormi, a pod.) umiestnenými priamo na stenách týchto hrotov. Takýmto spôsobom bude možné priamo vyhodnocovať meranú veličinu (elektrické pole, magnetické pole, teplotu, náboj, atď.), bez medziprevodu na mechanickú veličinu (ohyb nosníka). Aktívna vrstva bude na hrotoch na báze kvantových heteroštruktúr narastených metódou MOCVD na GaAs a InP. Okrem prípravy neplanárnych objektov a ich zarastania kvantovými štruktúrami cieľ projektu vyžaduje zvládnuť neplanárne technologické kroky ako litogrofiu, prípravu metalizácií, ohmické kontakty, pasiváciu a pod. na rôznych kryštalografických rovinách i mimo nich. Počítačové simulácie použijeme na určenie transportných vlastností takto pripravených súčiastok. Uvedený postup predstavuje úplne nový prístup ku skenovacím technikám a v ďalšom období môže priniesť významné aplikačné možnosti.ÚI SAV rieši čiastkovú úlohu viacúrovňovej priamej elektrónovej litografie pre tvarovanie aktívnych hrotov sondovej mikroskopie, pripravených na báze kvantových heteroštruktúr metódou MOCVD a submikrometrových Hallovských sond a realizáciu fotomasiek pre vývoj technológie „aktívnych hrotov“ sondových mikroskopov so súčiastkami (tranzistormi, senzormi, a pod.) umiestnenými priamo na stenách týchto hrotov.
Prostriedky pre návrh a modelovanie (mikro) elektro-mechanických systémov (MEMS).
Tools for design and simulation of (Micro) Electro-Mechanical Systems (MEMS).
Anotácia: Projekt skúma metódy a rieši prostriedky umožňujúce modelovanie a návrh (mikro) elektro-mechanických systémov (MEMS). Štúdium a rozpracovanie problematiky sa zakladá na poznatkoch zo stavby a riadenia robotických mechanizmov, riešenia senzorov so spracovaním signálov ako aj uplatnenia (mikro) technológii na ich realizáciu. Predmetom riešenia sú teoretické a metodické rozpracovania okruhov problémov zameraných na :- modelovanie a optimálny návrh mechanizmov a mechanických.štruktúr s pružnými / elastckými prvkami- vývoj technológií MEMS.
Prostriedky pre návrh, modelovanie a simuláciu mikro-elektromechanických štruktúr a mechanizmov /MEMS/
Tools for design, modeling and simulation of micro electro-mechanical systems /MEMS/
Anotácia: Projekt skúma metódy a rieši prostriedky pre modelovanie, návrh a simuláciu (mikro)elektro-mechanických štruktúr a systémov (MEMS). Štúdium a rozpracovanie problematiky sa zakladá na poznatkoch zo stavby a riadenia robotických prostriedkov, riešenia senzorov so spracovaním signálov, ako aj uplatnenia (mikro) technológii na ich realizáciu. Predmetom riešenia sú teoretické a metodické rozpracovania nasledujúcich problémov:- Analýza, modelovanie a simulácie vlastností MEMS, založených najmä na kompaktných pružných mechanických štruktúrach s integrovanou elektronikou- Metódy a prostriedky pre optimálny návrh a riešenie MEMS v súvislosti aplikačným zameraním
Stavba a riadenie mikro-elektro-mechanických prvkov a zariadení.
Construction and control of micro-electro-mechanical elements and devices.
Anotácia: Projekt skúma metódy a rieši prostriedky pre modelovanie, návrh a simuláciu (mikro)elektro-mechanických štruktúr a systémov (MEMS). Štúdium a rozpracovanie problematiky vychádzaz mechatronického prístupu a zakladá sa na poznatkoch zo stavby a riadenia robotickýchprostriedkov, riešenia senzorov so spracovaním signálov ako aj uplatnenia (mikro) technológiina ich realizáciu.Predmetom riešenia sú teoretické a metodické rozpracovania nasledujúcich problémov:-Analýza, modelovanie a simulácia vlastností MEMS založených na kompaktných pružne poddajnýchmechanických štruktúrach s integrovanou elektronikou.-Skúmanie metód a prostriedkov pre optimálny návrh a riešenie MEMS v súvislosti s aplikačným určením.-Informačno-riadiace sytémy s MEMS. Skúmanie metód prenosu a spracovania signálov (senzory), komunikácie a riadenia (mikro-robotické prvky a zariadeni...
Technológia výroby matice paralelných inteligentných nosníkov – sondových platform pre analýzu a syntézu v nanometrovej oblasti
Technology for the Production of Massively Parallel Intelligent Cantilever – Probe Platform for Nanoscale Analysis and Synthes
Anotácia: Finačná podpora SAV pre projekt 6RP č. 515739 PRONANO na vykrytie nenárokovateľných výdajov, napr. DPH.
Výskum nových nanolitografických technológii
Investigation of novel nanolithographic technologies
Anotácia: Predmet riešenia navrhovaného projektu patrí do oblasti vývoja nových nanolitografických technológií a postupov, ktoré sú kľúčovou technológiou vo výrobe nanoelektronických obvodov a nanosystémov. Nové a progresívne riešenia vo vývoji nanotechnológií budú hrať rozhodujúcu úlohu pre výrobu obvodov s rozmermi elementov menej ako 50 nm, v nanofotonike, v nanomagnetických prvkoch, v molekulárnej nanotechnológii, NEMS (nano-elektro-mechanických systémoch) technológii a pod. Príprava nanometrových štruktúr na neštandardných podložkách priamou litografiou s maximálnou presnosťou súkrytu ako aj príprava membránových masiek pre iónovú litografiu sú hlavnou oblasťou navrhovaného projektu. K tomu je potrebné optimalizovať expozície vhodných maskovacích materiálov (rezistov), prípravu dát pomocou nových algoritmov a optimalizáciu nových technologických procesov prípravy štruktúr.
Výskum procesov prípravy štruktúr pre obvody na nanometrovej úrovni
Investigation of processes for the preparation of structures for nanometer scale devices
Anotácia: Tento projekt je zameraný na pokročilé procesy tvarovania ortogonálnych a neortogonálnych štruktúr, ktoré umožnia rozšíriť mikrotechnológie do nanometrovej oblasti. Budú skúmané nové prístupy k expozičným postupom a k postupom vyvolávania rezistov, ako aj korelácia s následnou technológiou plazmatického reaktívneho iónového leptania leptania (RIE). Dosiahnutie týchto cieľov si vyžiada systematické štúdiumlimitujúcich faktorov pri interakcii elektrónov s rôznymi typmi rezistov a pri ich vyvolávaní, následného zložitého procesu vzájomného pôsobenia technologických parametrov, ako sú urýchľovacie napätie, expozičná dávka, podmienky vyvolávania, ako aj interakcia s následnými technologickými krokmi (suché plazmatické leptanie, lift-off, a pod.).
PFO-CAD CP93: 7896 - Copernicus program - Geometric Modeling for CIM-oriented Virtual Reality
PFO-CAD CP93: 7896 - Copernicus program - Geometric Modeling for CIM-oriented Virtual Reality
Anotácia: Geometric Modeling for CIM-oriented Virtual Reality - PFO-CAD CP93: 7896
Zodpovedný riešiteľ za Ústav teórie riadenia a robotiky SAV bol Doc. RNDr. Jaroslav Fogel, CSc.;
J. Sebestyénová vložila info o projekte do systému ELVYS; spoluriešitelia projektu z UTRR SAV (od r.2004 pripojený k Ústavu informatiky) boli: J. Fogel, P. Kurdel, K. Dobrovodský, J. Sebestyénová
CSG Modelling is part of almost all CAD-systems for the modelling of solid state matter. Numerous theoretical investigations and implementations have been carried out. Besides its advantages CGS models need still to be modified into envelope representations for many applications. Parametrizing and real time capabilities are getting lost by this process.
European links: The project will run in strict conjunction with CP93-9554 DODECAS
The Modelling will be made capable of real time by focussing on a subset of CSG Models. Generic storage in databases will be established by using appropriate canonization of representations. Deductive retrieval of variants will be eased substantially.
Názov čiastkovej úlohy, ktorú riešil kolektív z nášho ústavu: Fast matching algorithm for protein graphs
Výskum a vývoj nových informačných technológií na predvídanie a riešenie krízových situácií a bezpečnosť obyvateľstva
(CRISIS)
Anotácia: Bezpečnosť obyvateľstva, predvídanie živelných pohrôm a krízový manažment patria v súčasnosti k aktuálnym témam v spoločnosti. Rozvoj IT umožňuje uplatnenie sofistikovaných metód v snahe redukovat ohrozenie obyvateľstva, majetku a životného prostredia.Realizáciou aktivít projektu sa dosiahne synergický efekt, ktorý posilní schopnosť všetkých aplikačných výstupov uplatniť sa v praxi. Jednotlivé aktivity projektu sú navzájom previazané s cieľom integrovať výsledky výskumu do široko koncipovaného bezpečnostného systému, ktorého použiteľnosť bude vo viacerých oblastiach ochrany obyvateľstva, majetku a životného prostredia. Prínosom projektu bude najmä obohatenie výskumu v jednotlivých oblastiach o ďalšie aspekty, ktoré zvýšia pridanú hodnotu výsledného riešenia. Výhodou komplexného prístupu k riešeniu IS pre bezpečnosť je aj súčast výskumu v oblasti vývoja progresívnych technológií pre prípravu špeciálnych obvodov a senzorov pre IS. Prenositeľnosť výsledkov do praxe bude zlepšená pridaním takých vlastnostíbezpečnostných systémov, ako je používanie expresívnej rečovej syntézy pre generovanie citovo podfarbených varovaní, vytvorenie vizualizačných nástrojov pre simuláciu šírenia požiarov, vizualizáciu syntézy reči a prepojeniena mechatronické systémy, ktoré budú zabezpečovať monitorovanie pohyblivých objektov, detekovanie rizikových situácií a na smart mobilné mechatronické systémy pre zabezpečenie pohybu v rizikovom teréne.