• Elektrotechnický ústav, Slovenská akadémia vied, Bratislava, www.elu.sav.sk.
Spolupráca vo využití SEM, dUV litografie, elektrónovej litografie, príprave tenkých vrstiev a technológiách leptania RIE pre vývoj senzorov.

• Ústav elektroniky a fotoniky, Fakulta elektrotechniky a informatiky, Slovenská technická univerzita v Bratislave, www.fei.stuba.sk.
Spolupráca v technológiách leptania ICP RIE, vývoji senzorov a fotonických obvodov.

• Katedra experimentálnej fyziky, Fakulta matematiky, fyziky a informatiky Univerzity Komenského v Bratislave, www.dep.fmph.uniba.sk
Spolupráca vo využití elektrónovej litografie pre výskum.

• Institute of Electronics, Bulgarian Academy of Sciences, Sofia, Bulgaria, http://www.ie-bas.dir.bg/
Spolupráca v simuláciách procesov elektrónovej litografie.

• Institute of Microelectronics, NCSR Demokritos, Athens, Greece, www.imel.demokritos.gr
Spolupráca vo využití elektrónovej litografie pre výskum.

• Faculty of Microsystem Electronics and Photonics, Wroclaw University of Technology, Poland. www.wemif.pwr.wroc.pl
Spolupráca vo využití elektrónovej litografie pre výskum.

• Laboratoire de Physique des Matériaux et des Surfaces, Université de Cergy-Pontoise. Rue d’Eragny, Neuville sur Oise, 95 031 Cergy-Pontoise, http://lpms-cea.u-cergy.fr
Spolupráca vo vývoji nového typu elektrónového spinového polarimetra založeného na spinovo-filtračných javoch vo feromagnetických tenkých vrstvách.