Oddelenie elektrónovej litografie
Vedúci: RNDr. I. Kostič
Zástupca: Ing. Mgr. Robert Andok, PhD.
Previous webpage
Oddelenie elektrónovej litografie sa dlhodobo zaoberá výskumom v oblasti mikrotechnológií založených na využití elektrónového lúča.
Výskumnou prioritou Oddelenia elektrónovej litografie ÚI SAV je výskum v oblasti metód prípravy mikrometrových a nanometrových štruktúr s využitím elektrónového lúča a ich využitie v širokom rozsahu aplikácií v oblasti materiálového výskumu a nanotechnológií.

Výskumné témy:
– Výskum fyzikálnych javov v elektrónovej litografii pri príprave štruktúr v tenkých vrstvách v sub-mikrometrovej (150-900 nm) a nanometrovej oblasti rozmerov (10-100 nm).
– Výskum rezistových materiálov citlivých na elektrónové žiarenie.
– Optimalizácia litografických procesov a korelácia následných technologických procesov ako je plazmatické leptanie a príprava tenkých vrstiev s využitím rezistových masiek.

Cieľ výskumu:
– Využitie elektrónovej litografie pri riešení výskumných projektov v oblasti materiálového výskumu a nanotechnológií.
– Príprava štruktúr pre výskum mikroelektronických obvodov.
– Príprava štruktúr pre výskum polovodičových tenkovrstvových senzorov.
– Príprava štruktúr pre výskum mikro-elektro-mechanických systémov (MEMS).
– Výroba fotolitografických masiek pre UV a dUV fotolitografiu.